PRODUCTOS

EasyTube101-CVD

Easytube 101

El EasyTube® 101 es un sistema de CVD de pequeño tamaño, económico y fiable. El sistema tiene un área de procesamiento útil de 25 mm x 50 mm. Hasta 8 líneas de entrada están disponibles para los gases. 3 de las líneas son configurables para la entrega de vapor de fuentes sólidas o líquidas.

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EasyTube-2000-CVD

Easytube 2000

El EasyTube® 2000 es un sistema de deposición de vapor químico térmico avanzado para la síntesis de una amplia variedad de películas delgadas y nano materiales. El sistema de base puede procesar sustratos de diámetro 50 mm x 50 mm y tiene 3 zonas de resistencia a calentado.

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EASYTUBE3000-CVD

Easytube 3000/3000EXT

El sistema avanzado de CVD EasyTube® 3000 es el producto mas vendido y mas apto para laboratorios de universidades y la industria. El sistema de base incluye un tubo cilíndrico de cuarzo que puede ser desde 70 mm a 130 mm ID dependiendo del tamaño del sustrato deseada. Una gama de módulos opcionales pueden ser configurados para cumplir los requisitos específicos del usuario final.

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ET6000

Easytube 6000/6308

La serie EasyTube® 6000 puede configurarse para el procesamiento de múltiples obleas por lotes con hasta cuatro reactores (4), configurados por separado en el mismo sistema. Nuestros sistemas son utilizados mundialmente en plantas de fabricación de metal-óxido-semiconductor (CMOS) y los sistemas micro-electro-mecánicos (MEMS), para realizar procesos en flujo de trabajo.

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