Diseñar un calentador de alta temperatura para sistemas de depósitos de películas delgas en ultra-alto-vacío (UAV) que puedan funcionar tanto en atmósferas ricas en oxigeno como en nitrógeno no es una tarea fácil. Los calentadores convencionales de materiales y mecanismos, generalmente incorporan presión por vapor de sus componentes de calentamientos limitando la condición de UAV. Además, este tipo de ambientes provocan una oxidación prematura del sistema del material y deterioro en la calidad de proceso. Existen algunas técnicas para contrarrestar este problema, tal como usar platino como el elemento calentador o SIC, sin embargo, cada método tiene sus inconvenientes, ya sea como el constante mantenimiento y el corto tiempo de vida debido a la oxidación.

El sistema calentador láser AdNaNoTeK es la solución perfecta para el calentamiento de sus muestras en sistemas de UAV con atmósferas ricas en oxígeno y nitrógeno. Esta tecnología no presenta las desventajas que los otros calentadores tienen. Además, es una técnica sencilla de utilizar, compacta, personalizable y tiene un mecanismo calentamiento rápido.

Está equipado con un pirómetro de alta velocidad para monitorear las temperaturas y controlar automáticamente el calentamiento del láser. El sistema de calentamiento láser de AdNaNoTek es altamente recomendable para las técnicas de depósitos epitaxiales de óxidos/nitruros por láser.

Área de calentamiento localizada

El calentador láser AdNaNoTek puede calentar sustratos con excelente enfoque del haz, lo cual solo aumenta la temperatura del área seleccionada. El mecanismo cuenta con una pequeña distancia desde el plato estando a una temperatura relativamente baja, reduciendo la gasificación de las superficies cercanas. Se pueden calentar sustratos de hasta 2 pulgadas de área.
Además, el sistema puede operaras hasta 10 horas continúas permaneciendo frio, sin producir un sobrecalentamiento en el sistema láser.

• Temperatura mayor a 1200 °C incluso en ambientes completamente de oxígeno.
• No calienta componentes que pueden producir presión por evaporación en la cámara.
• Área localizada de calentamiento, menor gasificación durante el calentamiento (se puede depositar en altas condiciones de limpieza).
• Procesos con rápidas rampas de calentamiento.
• Fácil mantenimiento en comparación con los calentadores convencionales.
• Medición directa de la temperatura del sustrato/muestra por pirómetro.

• Enfriamiento por nitrógeno líquido: 100 K< temperatura del sustrato < 1200 K.
• Potencia láser dese 100 W hasta 350 W.
• Calentador láser personalizado.
• Tamaño y posición del láser ajustable.
• Modo pulsado de calentamiento.