El EasyTube® 2000 es un sistema de deposición de vapor químico térmico avanzado para la síntesis de una amplia variedad de películas delgadas y nanomateriales.
El sistema de base puede procesar sustratos de diámetro 50 mm x 50 mm y tiene 3 Zonas de Horno de Resistencia. El sistema está optimizado para el desarrollo del proceso controlado y la seguridad del usuario. Nuestra plataforma modular incluye una serie de opciones que se pueden configurar para satisfacer sus necesidades específicas de proceso. Muchas de las opciones están disponibles como mejoras después de la instalación.
El sistema está diseñado para cumplir con las normas de seguridad actuales para el manejo de gases pirofóricos, corrosivos, inflamables, tóxicos y como el hidrógeno, silano, germano, diborano, cloruro de hidrógeno, y los precursores orgánicos de metal. El sistema cuenta con los protocolos de seguridad de aplicaciones incrustadas en la lógica de relé, PLC, y el software CVDWinPrC™.
CONFIGURACIÓN ESTÁNDAR
- CVD WinPrC™ software de control de procesos basado para el Control de Tiempo real de proceso, registro de datos, generación de recetas y edición.
- Recetas pre programadas para una amplia variedad de aplicaciones.
- 3 zonas de calentamiento por resistencia en Horno para temperaturas de hasta 1200 °C o procesamiento térmico rápido opcional con calentador infrarrojo.
- Tamaños de Sustrato de hasta 50 mm x 50 mm.
- Alto Rendimiento con Horno FastCool™.
- Control de temperatura de proceso en cascada de temperatura en tiempo real (patentado).
- Carga/Descarga automática del sustrato en el sistema.
- Configuración de procesos atmosféricos o de alta presión disponibles.
- Hasta 8 Líneas de gas UHP.
- Advertencias y alarmas de usuario configurables.
- Aplicación de sistemas de seguridad configurados.
- Software y Hardware de Seguridad Integral.
- Un (1) año de garantía.
- Semi–S2/S8 y CE Compatible.
OPCIONES
- Resistencia de calefacción de alta temperatura del horno a > 1200 °C.
- Infrarrojos (IR) de calentamiento para procesamiento térmico rápido > 1100 °C.
- (RTP)> 1100 °C.
- Tubo de proceso rectangular para la mejora del flujo de gas laminar.
- Kit de suministro precursor de vapor líquido.
- Auto Repuesto de borboteador líquido.
- Crecimiento asistido de campo de polarización DC.
- Hasta 4 líneas de gas UHP de flujo masivo controlado.
- Intercambiador de aire a agua para agua de enfriamiento.
- Analizador de Gas Residual.
- Gabinetes de Gases Peligrosos EasyGas™.
- Paneles de gas para argón, nitrógeno, helio, oxígeno EasyPanel™.
- Sistema de Acondicionamiento de Gas EasyExhaust™.
REQUERIMIENTOS DE INSTALACIONES
- Eléctrico: 208 VAC, 60 Hz L1, L2, L3, N, G 30 – 40 Amps.
- Dimensión: 64″ Longitud, 30″ Anchura, 60″ Altura. 900-1300lbs.
- Escape: 500 Scfm. 1″WC.
- Agua De Refrigeración: 1 gpm 10-50 psig 75°F Max.
- Suministro Neumático: Aire limpio seco o N2, 1Scfm 80 psig.
- Instalación de Nitrógeno: 10 slpm 20 psig.
- Gases de Proceso: Especificado por el Cliente.
- NOTA: Variación eléctrica según el país; los requisitos instalaciones varían con las opciones del sistema. Consulte a la fábrica para obtener más información.
