El sistema EasyTube® 101 de First Nano es una herramienta avanzada de desarrollo de procesos de deposición de vapor químico para Universidades o Investigaciones Industriales.
Nuestra plataforma modular ofrece hasta ocho (8) líneas de suministro de gases. Tres (3) de las líneas de entrada se pueden configurar para fuentes sólidas o líquidas. El calentamiento del horno es proporcionada resistencia. El sistema puede ser configurado tanto para vacío como para los procesos atmosféricos. El tubo de proceso de 40 mm (ID) tiene un área de procesamiento útil de 25 x 50 mm y la mayoría de las opciones del sistema son actualizables.
Diseñado para cumplir con las más estrictas normas de seguridad de hoy en día, el sistema procesa de forma segura los gases pirofóricos, corrosivos, inflamables y tóxicos como el silano, diborano, cloruro de hidrógeno, hidrógeno y precursores líquidos de origen orgánico de metal con un sistema de seguridad completamente desarrollado. El sistema también tiene protocolos de seguridad de aplicaciones configurados incrustada en la lógica de relé, PLC y ECV WinPrC™ software.
El EasyTube® 101 es de uso fácil, de bajo costo para el investigador con un presupuesto limitado y cumpliendo con las necesidades de equipos llave en mano con recetas de proceso y un sistema probado de seguridad.
CONFIGURACIÓN ESTÁNDAR
- ECV WinPrC™ software de control de procesos basado para el Control de Tiempo real de proceso, registro de datos, generación de recetas y edición.
- Recetas pre programadas para SW/MW de CNT, nanocables, recocido, Difusión, óxidos, nitruros, ALD, capas epitaxiales, grafeno, etc.
- 3 Horno de Zona de Resistencia para temperaturas de hasta 1100 °C.
- Operación de Procesos Atmosférica.
- Control en Tiempo Real.
- Proceso de Control de la temperatura.
- Sistema de carga/descarga automática del sistema.
- Tubo de Proceso de Cuarzo, Contenedor de muestras, Gas Inyector y Perfiles Termopar.
- Sellos de proceso Dual O-Ring con un sistema de monitoreo de vacío para asegurar una operación libre de fugas.
- 4 controladores de flujo de masa con líneas de Gas UHP.
- Advertencias y alarmas configurables de usuario.
- Configuración para aplicación de sistemas de seguridad.
- Interbloqueos de Seguridad de Software y Hardware Integral.
- Inicio y entrenamiento del sistema en sitio.
- Un (1) año de garantía.
- Compatible con SEMI–S2/S8 y CE.
OPCIONES
- Hasta 4 líneas de gas adicionales con controladores de flujo de masa UHP.
- Purga/Reactivo: purga de gas inerte para líneas de gas reactivo.
- Ejecutar/Ventilar: estabiliza los flujos de gas (sin pasar por el tubo de proceso) antes de desembocar en el tubo de proceso.
- Suministro de vapores de fuentes solidas/liquidas a presión atmosférica – un máximo de tres (3).
- Bomba de aire – alimentación de aire en el sistema para la eliminación de residuos de carbono en un tubo de proceso de CNT.
- Presión baja y Operación APCVD.
- Bomba de Vacío 20 CFM de aceite.
- Bomba de tornillo mecánico en seco de 50 CFM.
- Válvulas neumáticas de respuesta rápida para operación ALD.
- Kit (pulgadas) Imperial de Herramientas.
- Soportes sísmicos.
- Ruedas para facilitar el movimiento del sistema en su laboratorio.
- Gabinetes de gas peligrosos EasyGas™.
- Paneles UHP de gas para argón, nitrógeno, helio, oxígeno EasyPanel™.
- Sistema de Acondicionamiento de Gas EasyExhaust™.
REQUERIMIENTOS DE INSTALACIONES
- Eléctrico: 208 VAC 60 Hz Fase 3, N, G (otros voltajes y frecuencias disponibles-consulte con la fábrica).
- Dimensión: 40″ anchura, 49″ longitud, 60″ Altura.
- Escape: 300 cfm.
- Suministro Neumático: Aire limpio y seco o N 2 SCFM a 80 psig .
- Instalación de Nitrógeno: 10 slpm a 20 psig.
- Gases de Proceso: Específico del sistema/Campo típicamente actualizable.
- NOTA: Variación eléctrica según el país; los requisitos instalaciones varían con las opciones del sistema. Consulte a la fábrica para obtener más información.
